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單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實驗的觀察記錄。腔體上頂開式設計開啟方便，易于清理，十分適合實驗室使用。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手.
光纖鍍膜儀技術參數:
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繞絲機構 |
尺寸 |
Φ15mmx245mm |
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繞絲速度 |
1-300r/min |
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磁控濺射頭 |
數量 |
2 英寸 x1 |
冷卻方式 |
水冷 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
Φ213mm X 307mm |
觀察窗口 |
φ80mm |
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腔體材料 |
不銹鋼 304 |
開啟方式 |
上頂開式、左側開式 |
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電源配置 |
直流電源數量 |
1 臺 |
輸出功率 |
≤300W |
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匹配方式 |
自動匹配 |
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水冷系統 |
水箱容積 |
9L |
流量 |
10L/min |
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供氣系統 |
類型 |
手動微量調節閥 |
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真空系統 |
前級泵 |
雙極旋片泵 |
抽速 |
1.1L/s |
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次級泵 |
渦輪分子泵 |
抽速 |
60L/s |
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抽氣口 |
ISO63 |
出氣口 |
KF16 |
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真空計 |
復合真空計 |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機功率 |
2kw |
